Nikon Eclipse MA100倒立式金相显微镜

  • 产品型号: MA100

产品叙述

操作更简单,成本收益率更高的显微镜
一款占地面积小、画质卓越、性价比高、耐用且体现人性化设计的倒置显微镜

ECLIPSE MA100 是一款应用明场或简易偏光照明技术,专为反射照明观察而设计的体积较小的倒置显微镜。
MA100 占地面积小,坚固耐用、操作简单,并且配备了卓越的尼康光学系统,是以下应用的理想台式系统解决方案:金相样本观察、电子元件观察、故障分析、材料科学及品管应用。

Nikon Eclipse MA100倒立式金相显微镜 - 载物台

载物台

即使放置较重的标本也能进行稳定的操作新开发的载物台具有超强的耐久性

尼康特别为MA100开发的新型MA-SR矩形载物台。三板式结构载物台使显微镜操作更为稳定,耐久性更高,可用于观察较重的标本,无需将标本从研磨树脂上取出,可直接置于载物台上观察。

CFI60

CFI60 光学系统可确保锐利、清晰的观察效果

尼康拥有专利的CFI60光学系统具有更高的数值孔径和更长的工作距离。CFI60 LU光学系统可为使用者提供明亮的高对比度、高解析度影像。MA100 配备内建影像端口,十分适合数位影像拍摄。内建物镜转换转盘最多可安装 5 个物镜镜头,方便使用者以各种倍率精准度观察。

Nikon Eclipse MA100倒立式金相显微镜-CFI 60
Nikon Eclipse MA100倒立式金相显微镜-孔径光阑

孔径光阑

标配口径光阑

洛射照明弃标配各种孔径光阑,可灵活控制图象队度与景深

反光镜

迅速确定物镜倍率精度

ECLIPSE MA100 的载物台下方装有反光镜,方便使用者查看物镜倍率。现在使用者不但可以轻松验证所用物镜镜头种类,而且无需查看债务台下方情况便可检查标本位置。

Nikon Eclipse MA100倒立式金相显微镜-反光镜
Nikon Eclipse MA100倒立式金相显微镜-起偏器

起偏器 / 检偏器

透过连动式起偏器 / 检偏器机构进行简易偏光观察

使用者可透过MA-P / A Po1套件轻松进行反射偏光观察。只需一步简单的操作便可将起偏器和检偏器置入光路中。起偏器能旋转360°,方便使用者设定一个适合标本观察的偏光方向。
可用于偏光观察的标本包括:塑胶、薄膜、金属、污染物、化学品、应变测试材料、玻璃和其他材料等。

尼康显微镜独有的最佳成像功能

影像拍摄

独立型
DS-L2 相机控制装置

可方便储存 / 列印数据

已拍摄影像可储存至USB记忆体或CF卡。除了可透过相容PictBridge的印表机直列印,使用者还可透过区域网路将资料储存至伺服器。

Nikon Eclipse MA100倒立式金相显微镜-可储存数据
Nikon Eclipse MA100倒立式金相显微镜-状态显示

状态显示

仅限MA200

当物镜倍率精度改变时,可自动改变校准资料。因此使用者可方便地使用DS-L2的测量功能。照明亮度可透过调整电压值的方式手动调整。 这一 点对于设定最佳观察和拍摄参数非常重要。

影像分析

PC 控制型
DS-L2 相机控制装置
控制软体
影像软体 NIS-Elements

使用者可透过 DS-U2和NIS-Elements进行从拍照到测量、分析及管理已拍摄影像等一系列操作。
*要了解更多信息,请查看 NIS-Elements产品目录。

Nikon Eclipse MA100倒立式金相显微镜分析设备

合成

相邻的影像可以拼接在一起,创造出宽视野影像。因为照明效果更加均匀、一致,现在拍摄的影像更加生动。

Nikon Eclipse MA100倒立式金相显微镜-影像合成
Nikon Eclipse MA100倒立式金相显微镜-状态显示

状态显示

仅限MA200

当物镜倍率精度改变时,可自动改变校准资料。因此使用者可方便地使用NIS-Elements的测量功能和其他可选软体模组(晶粒度和铸铁球化率分析模组等)。
使用者可透过PC调整照明条件,这点对于设定最佳观察、影像拍摄参数,尤其是大影像合成参数非常重要。

晶粒粒度分析模组

选配

本模组可依 JIS G0551 或 ASTM E112-96 / E1382-97 标准检测并测量 1 个或 2 个相位标本的晶粒度。

可进行以下测量:

  • G晶粒度
  • 单位面积内的晶粒度及 / 或截距
  • 晶粒数量
  • 向异性指数
  • 其他基本晶粒度统计

可依使用者需求提供以下客制化测量技术:

  • 平面
  • 线性
  • 圆形
  • Abrams
晶粒粒度分析模组
铸铁球化率分析模组

铸铁球化率分析模组

选配

本模组可依据 JIS G5502 或 ASTM A247-06 标准检测、测量和分类石墨校正标本的石墨成分和铁氧体成分。

主要应用:

  • 石墨形状及尺寸分类
  • 结核状态
  • 石墨、铁氧体、珠光体成份
  • 其他基本铁质材料分析统计
  • 影像遮罩、尺寸限制及模组形状分类

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